Законодатели США выступили за ограничение доступа Китая к оборудованию для производства чипов

В Соединённых Штатах представлен проект закона (MATCH Act), направленный на защиту лидерства США в сфере ИИ-технологий посредством недопущения китайских компаний к закупкам оборудования для производства чипов, которое компании КНР сами производить не могут, сообщило в пятницу агентство Reuters.

Законопроект также предполагает, что компании, находящиеся на территории стран-союзниц Вашингтона, наряду с США не будут поставлять соответствующее оборудование китайцам.

Как отмечает агентство, если раньше с подобными инициативами выступали президенты Америки, то теперь – конгрессмены.

По словам законодателей, их документ предполагает акцент на ограничении доступа к таким технологиям, как фотолитография в глубоком ультрафиолете (DUV lithography). На этом рынке доминирует нидерландская ASML. Также такое оборудование производит японская Nikon.

Законопроект предполагает запрет на продажу или обслуживание литографов для ведущих китайских производителей чипов – SMIC, Hua Hong, Huawei, CXMT и YMTC.

См. также: Китай создал прототип EUV-оборудования для выпуска передовых чипов — СМИ